常州屏宇屏蔽設(shè)備有限公司是國(guó)內(nèi)提供等產(chǎn)品和服務(wù)的知名公司,特此為大家介紹過該公司相關(guān)的內(nèi)容,互相學(xué)習(xí).
深入理解下面的結(jié)論對(duì)于結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)是十分重要的。
1)材料的導(dǎo)電性和導(dǎo)磁性越好,屏蔽效能越高,但實(shí)際的金屬材料不可能兼顧這兩個(gè)方面,例如銅的導(dǎo)電性很好,但是導(dǎo)磁性很差;鐵的導(dǎo)磁性很好,但是導(dǎo)電性較差。應(yīng)該使用什么材料,根據(jù)具體屏蔽主要依賴反射損耗、還是吸收損耗來決定是側(cè)重導(dǎo)電性還是導(dǎo)磁性;
2)頻率較低的時(shí)候,吸收損耗很小,反射損耗是屏蔽效能的主要機(jī)理,要盡量提高反射損耗;
3)反射損耗與輻射源的特性有關(guān),對(duì)于電場(chǎng)輻射源,反射損耗很大;對(duì)于磁場(chǎng)輻射源,反射損耗很小。因此,對(duì)于磁場(chǎng)輻射源的屏蔽主要依靠材料的吸收損耗,應(yīng)該選用磁導(dǎo)率較高的材料做屏蔽材料。
4)反射損耗與屏蔽體到輻射源的距離有關(guān),對(duì)于電場(chǎng)輻射源,距離越近,則反射損耗越大;對(duì)于磁場(chǎng)輻射源,距離越近,則反射損耗越。徽_判斷輻射源的性質(zhì),決定它應(yīng)該靠近屏蔽體,還是原理屏蔽體,是結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)的一個(gè)重要內(nèi)容。
5)頻率較高時(shí),吸收損耗是主要的屏蔽機(jī)理,這時(shí)與輻射源是電場(chǎng)輻射源還是磁場(chǎng)輻射源關(guān)系不大。
6)電場(chǎng)波是最容易屏蔽的,平面波其次,磁場(chǎng)波是最難屏蔽的。尤其是(1KHz以下)低頻磁場(chǎng),很難屏蔽。對(duì)于低頻磁場(chǎng),要采用高導(dǎo)磁性材料電磁,電磁屏蔽的效果影響的因素甚至采用高導(dǎo)電性材料和高導(dǎo)磁性材料復(fù)合起來的材料。
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一般情況下,屏蔽機(jī)箱上的不同部分的結(jié)合處不可能完全接觸,只能在某些點(diǎn)接觸上,這構(gòu)成了一個(gè)孔洞陣列。縫隙是造成屏蔽機(jī)箱屏蔽效能降級(jí)的主要原因之一。在實(shí)際工程中,常常用縫隙的阻抗來衡量縫隙的屏蔽效能?p隙的阻抗越小,則電磁泄漏越小,屏蔽效能越高。
縫隙處的阻抗:縫隙的阻抗可以用電阻和電容并聯(lián)來等效,因?yàn)榻佑|上的點(diǎn)相當(dāng)一個(gè)電阻,沒有接觸的點(diǎn)相當(dāng)于一個(gè)電容,整個(gè)縫隙就是許多電阻和電容的并聯(lián)。低頻時(shí),電阻分量起主要作用;高頻時(shí),電容分量起主要作用。由于電容的容抗隨著頻率升高降低,因此如果縫隙是主要泄漏源,則屏蔽機(jī)箱的屏蔽效能優(yōu)勢(shì)隨著頻率的升高而增加。但是,如果縫隙的尺寸較大,高頻泄漏也是縫隙泄漏的主要現(xiàn)象。
影響電阻成分的因素:影響縫隙上電阻成分的因素主要有:接觸面積(接觸點(diǎn)數(shù))、接觸面材料(一般較軟的材料接觸電阻較。、接觸面的清潔程度、接觸面的壓力(壓力要足以使接觸點(diǎn)穿透金屬表層氧化層)、氧化腐蝕等。
影響電容成分的因素:根據(jù)電容器原理,很容易知道:兩個(gè)表面之間距離越近,相對(duì)的面積越大,則電容越大。
解決縫隙泄漏的措施:
1) 接觸面的重合面積,這可以減小電阻、增加電容。
2) 使屏蔽用如何避免縫隙電磁泄露的危險(xiǎn)盡量多的緊固螺釘,這也可以減小電阻、增加電容。
3) 保持接觸面清潔,減小接觸電阻。
4) 保持接觸面較好的平整度,這可以減小電阻、增加電容。
5) 使用電磁密封襯墊,消除縫隙上不接觸點(diǎn)。
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